等离子抛光对水的要求
等离子抛光的用水主要是拿来稀释抛光盐,形成抛光盐溶液,这方面的水有条件的话用纯水、因为水里面杂质少、对抛光盐的干扰也会少很多,没有条件用自来水也可以、对抛光盐的时效性多少会有点影响,还有一部分用水是拿来清洗抛光后的产品的、抛光好的产品从等离子抛光机里面拿出来、产品表面会有少许抛光液残留、靠通过过水槽溢流将残留抛光液洗掉、加上超音波会清洗的更彻底,如果对产品表面要很高的产品,得需要一条专门的超音波清洗线来完成。
等离子抛光对表层的影响
等离子抛光是物理反应和化学反应并存的,当产品通电沉到抛光槽里面时、产品接触到抛光盐溶液的那一瞬间、电场的作用将抛光盐溶液电离成大量的酸根离子、酸根离在电场的作用下闯击产品表面一部分形成尖端放电、把产品微观高的地方给直接闯击掉,另外这些酸根离子还会和产品表面的材料成分发生化学反应、形成微弱的溶解、微观高的地方不断被溶解和打掉、所以会慢慢去掉高的部分、也就是慢慢变平整、启动抛光的作用。八溢自动化设备有限公司生产的等离子抛光设备、效率高、操作简单方便。
等离子抛光机的季度保养
等离子抛光机的季度保养要稍微分钟一些、除了日保养、月保养的项目以外、还得检查控制箱的电器部件,设备正常运行了一段时间后散热风扇上回积灰、电器上面也有积灰,的用压缩空气除尘、检查风扇是否运行正常,另外电源柜上有许多风扇,各个方式都得正常运行(电源柜都是靠风扇来散热的),一般全桥整流的一个内部还有方式、须得拆开面板才可以除尘、在除尘得小心、里面都是线路、容易造成触电,需电工方可在断电的情况下、谨慎作业。
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